微流控芯片定制系列
- WHGF-1
- 汶颢股份
- 江苏省苏州市
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- 2023-08-21 10:15:37
苏州汶颢微流控技术股份有限公司
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微流控芯片设计
汶颢股份专注微流控领域，具有深厚的技术与工艺基础，团队成员有化学、材料、微加工、细胞生物学、环境、 医药等多个学科专业背景，能够为客户设计各种复杂功能、不同材质、不同微结构的微流控芯片，设计理念是芯
片满足客户的需求，包括科研基础研究和应用研究。芯片设计原则：目标实现、操作简单、成本控制、时间效率、优质服务。
微流控芯片加工
汶颢股份具有雄厚的微流控芯片加工能力，保持国内芯片加工领域领先地位，配置了数控 CNC 系统、软刻蚀 系统、开模注塑系统、激光雕刻系统以及金属模具热压系统，可以加工玻璃、石英、硅、PDMS、PC、金属等所
有主流材质的微流控芯片。
PDMS：加工线宽在2微米以上，深宽比最大可达5:1;
玻璃/石英/硅片：湿法刻蚀，线宽在2微米以上，宽深比要大于2:1；
电极结构（金、铂、铝和其他合金）：线宽在2微米以上;
PMMA等聚合物：加工线宽在100微米以上，深度5微米以上;
金属芯片：加工线宽在100微米以上，深度5微米以上;
光刻胶模具：线宽在5微米以上，深宽比可达7:1；
纯硅模具：线宽在2微米以上，深宽比可达20:1.
光刻工艺
光刻工艺（Photoetching or Lithography）是一种图像复印技术，利用光刻胶感光后特性发生改变的原理，将 光刻掩膜版的图形精确地复印到涂在硅晶圆片上的光刻胶上，然后利用光刻胶作为掩膜保护，在晶圆片表面的掩 膜层上进行选择性加工（刻蚀或注入），从而在晶圆片上获得相应的图形结构。汶颢提供电子束光刻、步进式光 刻、接触式光刻等光刻技术，线宽最小可达2μm，多种光刻技术结合的先进光刻理念，实现客户不同尺寸、不同 结构、单层或多层的光刻需求。
汶颢股份配置了完整的微流控芯片加工设备及拥有经验丰富的微流控芯片工程师团队，可提供所有主流材质的标准芯片和客 户定制芯片加工服务，客户可以根据自己的需求设计微流控芯片或者委托我司设计与加工微流控芯片。
数控工艺
汶颢股份拥有经验丰富的数控CNC技术团队，配置了高精度的数控CNC设备，并搭载其他辅助设备，如线切 割、电火花放电加工、数控车床、车铣复合中心、激光切割机、数控折弯机、自动化生产线等。在数控CNC微加 工方面有10年以上生产经验的实力沉淀，能提供精良的品质、精准的设计和精密的制造，给客户快捷、诚信和优 质的加工服务。
加工设备 芯片案例
MEMS工艺
汶颢股份有众多的MEMS加工设备，积累了丰富的MEMS加工经验，可解决众多复杂工艺，能够提供包括双面 光刻、深硅刻蚀、磁控溅射、化学沉积等传统MEMS加工服务。部分设备图片如下所示：
